铭衍海(常州)微电子有限公司
一站式超精密研磨抛光解决方案提供商
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铭衍海二氧化硅抛光液采用纳米级高纯二氧化硅胶体粒子，呈单分散状态，粒径可控且分布极窄。产品软硬度适中，以化学腐蚀为主导、机械研磨为辅，能够实现纳米级甚至亚纳米级的超高精度表面处理，有效降低表面粗糙度。广泛用于半导体晶圆（硅片、碳化硅）、蓝宝石衬底及光学元件的最终精密抛光，是达成无损伤、超光滑表面的关键材料。
粒度精准
粒径分布窄，实现微米级高效去除，无深度划痕。
切削力优
高效研磨各类硬脆材料，快速去除加工余量，抛光效率高。
悬浮稳定
久置不分层、不沉淀、不团聚，批次间性能一致，抛光重复性好。
环保易清洗
水性体系，无重金属残留，无有机难溶成分，纯水可快速冲净。
适配性强
适配半导体、光学、精密陶瓷等多领域中抛 / 粗精抛需求，兼容主流抛光机台与抛光垫。
铭衍海提供一站式超精密研磨抛光解决方案
温度：5℃ ~ 35℃，防冻（<0℃磨粒结块失效）、防高温（>35℃破坏体系稳定性）、防晒避光。
使用前：充分搅拌均匀，确保磨粒分散一致；可原液使用或按 1:1~1:8 比例用去离子水稀释，稀释后再次搅匀
